显影、蚀刻、剥膜、重工工艺

Manz 的基板显影、蚀刻与剥膜等为全自动化工艺设备解决方案。此外,重工工艺处理设备 - 可完全去除基板上镀的任何薄膜,以便回收昴贵的材料与基板,重新运用回生产工艺之中。

凭借数十年来累积的丰富经验, Manz 在蚀刻制程中拥有独到的专业知识。从表面粗化制程 (例:硅晶圆表面粗化) 到研磨 (例:金属表面研磨) 至金属蚀刻 (例:PCB 的铜蚀刻)。这些工艺也可用于单面蚀刻 (例:太阳能电池生产的化学除边)。

蚀刻工艺中使用许多具有危险性的药液。若无建置氢氟酸、硫酸或氢氧化钾溶液等中央化学供应系统,我们也提供合适的化学供应箱。我们的蚀刻工艺适用于多种基材,例如硅晶圆 (太阳能电池与半导体)、玻璃或印刷电路板。

针对光阻剥膜,我们提供经常用于 PCB 生产的苛性碱工艺 (如NaOH、KOH);此外,我们也提供常见于显示器生产的有机碱工艺 (例:MEA、BDG)。