清洗

对敏感性基材进行优化清洗,是下游制程能够达到最佳成果的首要条件。Manz 能为硬式与软性基材提供高效率的化学湿制程洗净设备。

清洗

终端产品走向愈来愈高分辨率趋势,使得基材洗净条件也益发严苛。Manz 的洗净(清洗)系统能够可靠地移除基材上的微粒、灰尘与有机污染物,为后续的制程阶段提供优化的生产条件。

  • 我们的产品线,包括洗净各式各样不同基材(例如玻璃、硅晶圆、软性材料)的流通系统,并采用多样化的洗净技术,例如:
  • 刷轮清洗
  • 超音波清洗
  • 兆声清洗
  • 高压清洗

我们的设备涵盖广泛的洗净制程与可适用的基材种类,包括显示器与触控面板生产制程的毛坯玻璃入料清洗,到已镀膜基材的洗净 (例如抗油镀膜玻璃或半导体,或是铜沉积前的印刷电路板)。因此,可处理的基材尺寸小至智能型手机,最大可达 3,370×2,940 mm (10.5 代)。
为了准确供应制程中必须的洗净药液,我们也提供相对应的供给系统