显影、蚀刻、剥膜、再生制程

化学湿制程中的黄光显影、蚀刻和剥膜制程,主要应用于印刷电路板( PCB) 及显示器与触控面板的生产。此外,太阳能电池生产中的蚀刻制程,亦同等重要。Manz 的产品线除了包含上述所有的重要制程,还包括重工(再生)与洗净的化学湿制程设备。

显影、蚀刻、剥膜、再生制程

Manz 的基板显影、蚀刻与剥膜等为全自动化制程解决方案。此外,重新工艺处理设备 - 可完全去除基板上镀的任何薄膜,以便回收昴贵的材料与基板,重新运用回生产制程之中。

凭借数十年来累积的丰富经验, Manz 在蚀刻制程中拥有独到的专业知识。从表面粗化制程 (例:硅晶圆表面粗化) 到研磨 (例:金属表面研磨) 至金属蚀刻 (例:PCB 的铜蚀刻)。这些制程也可用于单面蚀刻 (例:太阳能电池生产的化学除边)。
蚀刻制程中使用许多具有危险性的药液。若无建置氢氟酸、硫酸或氢氧化钾溶液等中央化学供应系统,我们也提供合适的化学供应箱。
我们的蚀刻制程适用于多种基材,例如硅晶圆 (太阳能电池与半导体)、玻璃或印刷电路板。

针对光阻剥膜,我们提供经常用于 PCB 生产的苛性碱制程 (如NaOH、KOH);此外,我们也提供常见于显示器生产的有机碱制程 (例:MEA、BDG)。