SNEC 2012: Manz stellt neues Equipment für nasschemische Prozesse vor

26.04.2012 11:58:00 CEST Damit verbundene höhere Integration der Herstellung von kristallinen Solarzellen bietet der Branche Kostenvorteile.

Reutlingen, 26. April 2012. Die Manz AG wird auf der größten Solarmesse der Welt im Mai eine neue Anlage zur nasschemischen Bearbeitung von kristallinen Solarzellen präsentieren. Am Vorabend der SNEC 2012 in Shanghai wird Manz zudem ein neues Werk in Suzhou, rund zwei Stunden westlich von Shanghai, eröffnen.

In dem neuen Werk von Manz wird auch die Nasschemie-Prozessanlage IPSG CEI 4800 produziert. Ausschlaggebend für diese Standortentscheidung war die Nähe zu asiatischen Kunden sowie zum Entwicklungszentrum von Manz Taiwan. Manz Taiwan hat bereits über 20 Jahre Erfahrung mit nasschemischen Prozesstechnologien für die Halbleiterindustrie und die Fertigung von Flat-Panel Displays (FPD). Der Geschäftsbereich FPD ist momentan der wichtigste von Manz und macht rund 65 Prozent des derzeitigen Auftragsbestands von 104 Millionen Euro aus.

„Mit der Nasschemie für die PV-Industrie übertragen wir das Know-how aus dem Displaybereich“, sagt Dieter Manz, Gründer und CEO des Hightech-Maschinenbauers; „gleichzeitig schließen wir die Lücke in unserem Produktportfolio für cSi und erhöhen die Integration des Fertigungsprozesses.“

Der Name der neuen Anlage IPSG CEI 4800 steht für inline removal of phosphor silicate glass (IPSG) und chemical edge isolation (CEI). Mit der Anlage wird die hochdotierte Schicht von der Rückseite und den Kanten eines Silizium-Wafers chemisch entfernt und damit der Emitter von der Rückseite isoliert. In einem zweiten Arbeitsschritt wird die auf der Oberseite verbliebene Phosphorsilikatglasschicht entfernt.

Das erstmals eingesetzte Schwammrollen-Konzept ermöglicht einen höheren Durchsatz bei gleichzeitig höherer Prozessstabilität und einer geringeren Bruchrate. Wie der Name schon sagt, schafft die neue Manz-Anlage einen Durchsatz von bis zu 4.800 Wafer/Stunde.

Die IPSG CEI 4800 wird von Manz in Verbindung mit der bewährten SpeedPicker Be- und Entlade-Automation angeboten. Für den Herbst hat das Reutlinger Unternehmen weitere Produktneuheiten zur Fertigung kristalliner Solarzellen angekündigt: eine neue Anlage zur Vakuum-Beschichtung sowie eine neue Texturierungsanlage. „Damit liegen wir gut im Plan auf unserem Weg hin zum Komplettanbieter von PV-Produktionsequipment“, sagt Dieter Manz.

Die Eröffnungszeremonie im neuen Werk von Manz in Suzhou wird am 15. Mai 2012 stattfinden. In dem 16.000 Quadratmeter großen Standort will Manz deutsche Markenqualität fertigen und dabei lokale Kostenvorteile nutzen.

IPSG CEI
Die neue Nasschemie-Prozessanlage IPSG CEI 4800 von Manz schafft 4.800 Wafer pro Stunde.

Phosphorsilikatglasschicht
Die auf der Oberseite des Wafers verbliebene Phosphorsilikatglasschicht wird entfernt.

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