半導體面板級扇出型封裝(FOPLP) 生產設備解決方案

實現半導體高密度重佈線層(RDL)封裝的關鍵技術

終端產品推動先進封裝技術再進化

面板級扇出型封裝技術是近年來半導體封裝中的一項重要發展技術。透過使用多層內導線結構,將數個晶片整合到封裝體中,實現高密度封裝製程,達到產品高效能且體積小的要求。

隨著大步跨入物聯網、5G 和電動車世代,在市場對於消費性電子產品要求日漸嚴苛的現今,使得面板級扇出型封裝技術更加被重視。此技術一來為晶片製造商提高生產效率,一來生產資料傳輸速率更快、功率損耗更小以及成本更低的晶片。

RDL Redistribution Layers
FOPLP Layers

透過 RDL 技術進行區域性互連,成為面板級封裝(FOPLP)不可或缺的致勝關鍵

在電子終端產品需求帶動下,晶片同質/異質整合趨勢已成市場共識,藉由 RDL 技術,晶片整合度由過去從PCB 及載板提升至薄膜製程或 2.5D 中介層等晶片高度整合製程方式。這些晶片透過 RDL 連結的方式整合在單一封裝體中,甚至將整個系統所需的功能晶片一次打包成為單一元件,整合在一個封裝體中。

  • 封裝厚度更薄
  • 實現同質、異質多晶片整合堅實的基礎
  • 減少製程生產流程同時降低材料成本

Manz 面板級封裝 RDL 整廠生產設備解決方案 ─ 已獲得驗證是實踐量產的途徑

擁有自動化、化學濕製程以及電鍍生產設備製造及 RDL 製程技術,透過全面性的專業知識,我們提供以客戶需求為導向的高效率系統解決方案,滿足製造商高標準的需求。

  • 自動化

上下料系統|機械手臂|移載系統

  • 化學濕製程

洗淨設備|顯影設備|蝕刻設備|剝膜設備

  • 電鍍

無治具垂直專利電鍍設備

  • 高精度噴墨印刷

噴塗阻焊層

  • 從單一設備到整廠設備規劃
  • 適用於各式基板生產

適用於PMIC、功率器件、新世代射頻通訊等晶片封裝之生產製程

以FOPLP封裝技術生產的晶片元件具備較佳的導電性、電性功能及散熱性,市場對於FOPLP封裝
技術和需求也快速提升,並逐步擴大應用範圍。

扇出型晶圓級封裝 ( FOWLP , Fan-Out Wafer Level Packaging ) 適用於CPU或GPU等封裝產品,需要較高設備成本。而FOPLP則聚焦於高功率、低耗能、大電流的半導體應用,如APE、RF及PMIC等。

Manz_plating

製作精密RDL的關鍵垂直電鍍設備

新型的垂直電鍍銅無需使用治具,透過專利的基板固定方式即可完成單面電鍍銅製程,可節省治具的購置成本及在製程中的電鍍藥水消耗和藥水清洗成本。

此外,該電鍍設備採用模組化設計,可根據客戶產能、廠房占地面積進行靈活配置,零組件可快速操作及拆卸,易於維護及保養,能夠進行高效生產。

  • 實現優異的電鍍銅均勻性(<10%)之外確保填孔能力(<25μm)
  • 業界首創無治具垂直電鍍線,減少化學品的消耗及節省維護成本
  • 最大基板尺寸700mm x 700mm,相容基板材料:不鏽鋼、環氧樹酯、玻璃及CCL(FR-4)

面板級扇出型封裝(FOPLP) 生產設備解決方案已實踐面板尺寸 510mm x 515mm, 600mm x 600mm 及 700mm x 700mm

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