Reinigen

Perfektes Reinigen von empfindlichen Substraten ist Voraussetzung für optimale Ergebnisse bei nachgelagerten Prozessen. Manz bietet materialschonende und zugleich höchst effektive nasschemische Reinigungsanlagen für feste und flexible Substrate.

Reinigen

Immer höher auflösende Strukturen ziehen immer höhere Anforderungen an die Reinheit von Substraten nach sich. Reinigungsanlagen von Manz entfernen zuverlässig kleinste Partikel, Staub und organische Verunreinigungen und liefern somit optimale Voraussetzungen für weitere Bearbeitungsschritte.

Unsere Produktpalette umfasst Durchlaufanlagen zur Reinigung verschiedenster Substrate (z.B. Glas, flexible Materialien). Hierbei kommen diverse Reinigungstechnologien zum Einsatz, wie z. B.:

  • Bürsten
  • Ultraschall
  • Megaschall
  • Hochdruckspülen

Unsere Anlagen decken hierbei ein breites Spektrum von Reinigungsprozessen und möglichen Substraten ab. Angefangen von der Eingangsreinigung von Rohgläsern in der Display- und Touchpanel-Produktion bis hin zur Reinigung bereits beschichteter Substrate (z. B. oleophob beschichtete Gläser oder Halbleiter- bzw. PCB-Substrate nach der Kupferabscheidung). Hierbei können Substratgrößen vom Smartphone bis hin zu einem Format von 3.370 × 2.940 mm (Gen 10.5) bearbeitet werden.

Für die richtige Versorgung der Prozesse mit den notwendigen Reinigungschemikalien stellen wir zusätzlich die entsprechenden Versorgungsysteme zur Verfügung.