Manz startet Serie von neuen Produkten mit Anlage für nasschemische Prozesse auf der SNEC 2012 in Shanghai

21.05.2012 09:50:00 CEST Neue Anlage zur Herstellung kristalliner Solarzellen basiert auf Know-how aus der Display-Fertigung und steigert Integration des Produktionsprozesses.

Die neue Nasschemie-Prozessanlage IPSG CEI 4800 von Manz schafft 4.800 Wafer pro Stunde.

Die Manz AG hat auf der weltweit größten Solarmesse SNEC in Shanghai eine neue Anlage zur nasschemischen Bearbeitung von kristallinen Solarzellen vorgestellt. Der Name der Anlage IPSG CEI 4800 steht für inline removal of phosphor silicate glass (IPSG) und chemical edge isolation (CEI). Damit wird die hochdotierte Schicht von der Rückseite und den Kanten eines Silizium-Wafers chemisch entfernt und der Emitter von der Rückseite isoliert. In einem zweiten Arbeitsschritt wird die auf der Oberseite verbliebene Phosphorsilikatglasschicht entfernt.

„Mit der Nasschemie für die PV-Industrie übertragen wir unser Know-how aus dem Displaybereich und schließen gleichzeitig die Lücke in unserem cSi-Produktportfolio“, sagt Dieter Manz, Gründer und CEO des Hightech-Maschinenbauers. „Nur mit der immer höheren Integration von einzelnen Prozessschritten in einer Anlage können unsere Kunden die Herstellungskosten pro Watt immer weiter senken“.

Der Durchsatz der neuen Anlage liegt bei bis zu 4.800 Wafer/Stunde. Ermöglicht wird dies durch ein erstmals eingesetztes Schwammrollen-Konzept, das auch eine höhere Prozessstabilität bei geringster Bruchrate erlaubt. „Mit einer zusätzlichen Optimierung der Anlage schaffen wir sogar bis zu 5.000 Wafern pro Stunde“, sagt Kari Raudasoja, Produktmanager im Bereich cSi-Equipment bei Manz. In Tests arbeitete die neue Nasschemie-Anlage mit einer Bruchrate von unter 0,1 Prozent, inklusive der Be- und Entladeautomation. Die IPSG CEI 4800 ist modular aufgebaut, deshalb sind alle Funktionseinheiten leicht zugänglich und zu warten. Das ermöglicht höchste Maschinenlaufzeiten und damit ein hervorragendes Preis-Leistungs-Verhältnis.

Die neue Nasschemie-Anlage wird von Manz in Verbindung mit dem bewährten Automationssystem SpeedPicker zum Be- und Entladen von Prozessanlagen angeboten. Produziert wird das Equipment im neuen Werk von Manz in Suzhou/China, das letzte Woche mit rund 600 geladenen Gästen und Kunden eröffnet wurde. In dem 16.000 Quadratmeter großen Standort wird Manz deutsche Ingenieurskunst fertigen und dabei lokale Kostenvorteile nutzen. Ausschlaggebend für diese Standortentscheidung war die Nähe zu asiatischen Kunden sowie zum Entwicklungszentrum von Manz Taiwan. Manz Taiwan hat bereits über 20 Jahre Erfahrung mit nasschemischen Prozesstechnologien für die Halbleiterindustrie und die Fertigung von Flat-Panel Displays (FPD).

Das Reutlinger Unternehmen hat gleichzeitig weitere Produktneuheiten zur Fertigung kristalliner Solarzellen angekündigt: eine neue Anlage zur Vakuum-Beschichtung sowie eine neue Texturierungsanlage. „Damit liegen wir gut im Plan auf unserem Weg hin zum Komplettanbieter von PV-Produktionsequipment“, sagt Dieter Manz.

Phosphorsilikatglasschicht
Die auf der Oberseite des Wafers verbliebene Phosphorsilikatglasschicht wird entfernt.

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